杨晨读研报0918：光刻机

发布时间：2023-09-18 文章来源：量学大讲堂

【光刻设备】

整机：张江高科

光学元件：茂莱光学、腾景科技、炬光科技、晶方科技、苏大维格

光学镜头：奥普光电、福光股份、波长光电

光源：福晶科技

透镜系统：赛微电子

零部件：富创精密

净化设备：美埃科技

涂胶显影设备：芯源微、盛美上海

除胶：安达智能

量测设备：精测电子

清洗设备：富乐德、蓝英装备

光学制版：京华激光

成像光刻：芯碁微装

【光刻材料】

光刻胶：广信材料、奥来德、南大光电、上海新阳、彤程新材、王子新材、鼎龙股份、容大感光、飞凯材料、晶瑞电材、华懋科技、普利特、高盟新材、雅克科技

光掩膜板：冠石科技、路维光电、清溢光电

引发剂：强力新材、扬帆新材、久日新材

显影剥离：格林达

刻蚀液：盛剑环境、怡达股份

光刻气：华特气体、凯美特气

光刻胶溶剂：百川股份

湿电子化学品：江化微、莱伯泰科

感光剂：康达新材

除胶剂：安集科技